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EUV系統
EUV系統
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極紫外光刻(EUVL)是半導體工業實現32～16nm技術節點的候選技術，而極紫外曝光光學系統是EUVL的核心部件，它主要由照明系統和微縮投影物鏡組成。本文介紹了國內外現有的EUVL實驗樣機及其系統參數特性；總結了EUVL光學系統設計原則，分別綜述了EUVL投影光學系統和照明光學系統的設計要求；描述了EUVL投影曝光系統及照明系統的設計方法；重點討論了適用于22nm節點的EUVL非球面六鏡投影光學系統，指出了改善EUVL照明均勻性的方法。

ASML 2021 第三季度凈銷售額 52 億歐元，凈利潤 17 億歐元
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關于ASML（阿斯麥）2021年第三季度的凈銷售額和凈利潤，根據公開發布的信息，以下是詳細解答：ASML 2021年第三季度財務數據凈銷售額：ASML在2021年第三季度的凈銷售額為52億歐元（約合386.64億人民幣）。這一數字略低于市場預期的52.96億歐元，但相較于上年同期的39.58億歐元，實現了32.4%的同比增長。凈利潤：同期......
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2021-10-26
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