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EUV光刻應用

EUV光刻應用

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用于高端邏輯半導體量產的EUV（Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻）曝光技術的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術節點到今年（2019年，也是從今年開始），每2年~3年一個階段向新的技術節點發展。

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泛林集團 EUV光... EUV光...

2021-04-27

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